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- 甲基磺酸全光澤純錫電鍍製程
一、簡 介
甲基磺酸全光澤純錫電鍍製程 是甲基磺酸型，其特性屬於低泡沫，尤其適用於
在高速度電鍍條件下能生成光亮錫鍍層，此一配方鍍出純錫鍍層所產生的錫鬚非常少量。
甲基磺酸全光澤純錫電鍍製程在很寬的操作條件範圍內，包括電流密度和適當的攪拌，
仍能保持鍍層性質穩定。
● 可焊性極佳。
● 鍍層性質穩定。
● 甲基磺酸型-無氟硼酸。
● 無甲醛。
● 陽極均勻溶解。
● 鍍層均勻。
● 高效率、低泡沫。
● 容易過濾。
● 不易形成四價錫。
